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中國修訂晶片設計保護新制！嚴打抄襲 IC 版圖設計，強化原創審查與侵權懲罰

中國正式修訂《積體電路布圖設計保護條例》，大幅提高晶片版圖（IC Layout）取得法律保護的門檻，要求設計必須證明為自主研發並具備原創性，同時加重侵權賠償與懲罰性賠償機制。值得注意的是，新法目前仍允許中國 IC 設計公司委託台積電（TSMC）與三星晶圓代工（Samsung Foundry）生產晶片，意味中國尚未全面限制先進晶片赴海外製造。