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中國囤了 343 台浸潤式 DUV：沒有 EUV 仍能做 7nm，出口管制最大的漏洞被重新點名
美國研究機構 Centre for Technology & Statecraft 估算，截至 2026 年第一季，中資晶圓廠已累積取得約 343 台浸潤式 DUV 微影設備，其中約 270 台屬於 ASML NXT:1980i 等級系統。雖然中國無法購買 ASML EUV，但 immersion DUV 配合多重圖形化仍可生產 7nm 級邏輯與部分先進記憶體，只是成本、製程複雜度與良率壓力更高。這讓出口管制焦點重新從『有沒有 EUV』轉向『中國到底還能取得多少高階 DUV、零件與維修能力』。
晶片觀測站·1 天前
9 min
High-NA EUV 太先進，反而塞不下大型 AI 晶片？ASML 準備放大光罩，解決下一代曝光難題
ASML 的 High-NA EUV 將數值孔徑從現有 EUV 的 0.33 提升至 0.55，可提供更高解析度並減少先進製程的多重圖案化步驟，但這項光學升級也帶來一個反直覺限制：目前 High-NA 的單次曝光範圍較小，難以直接處理接近傳統約 800 mm² reticle limit 的大型 AI 與資料中心晶片。ASML 9 月 8 日表示，將與主要晶片製造商合作導入更大的 mask 解決方案，目標讓 High-NA 未來也能製造 NVIDIA、Google 等公司使用的大型運算晶片，並提升約 40% 生產力。
晶片觀測站·4 週前
9 min